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后发企业与创新联合体共演驱动产业关键核心技术持续突破的机制研究
张贝贝, 尹西明, 陈泰伦, 余江, 陈劲
2024, 45(8):
83-94.
DOI: 10.19571/j.cnki.1000-2995.2024.08.009
摘要
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147 )
如何持续突破产业关键核心技术,是以科技创新引领现代化产业体系构建、加快发展新质生产力的核心抓手与重点议题。然而现有研究鲜有关注中观层面如何桥接宏观产业生态和微观主体,进而实现产业关键核心技术持续突破的过程机制这一重要的理论与实践议题。本研究聚焦光刻机这一集成电路产业代表性关键核心技术,以光刻系统集成商ASML为案例,运用纵向单案例方法系统探究:后发企业如何通过与创新联合体共演,持续突破产业关键核心技术并实现超越追赶?研究发现:面向光刻技术的阶跃性目标,基于“动机(M)-战略(S)-创新联合体(C)”的过程逻辑,ASML与其创新联合体持续共演,通过“权力分配”主体协同、“产业牵引”知识整合和“核心-外围”利益共生三种价值共创机制,驱动光刻机技术持续突破。随着创新联合体从萌芽、升级、强化到共生,ASML逐步完成其在光刻市场的后发追赶到引领超越。研究结论拓展并深化了产业创新生态系统视角下产业关键核心技术突破与后发追赶的理论研究,为培育壮大科技领军企业,提升产业技术创新能力,加快现代化产业体系建设和发展新质生产力提供重要启示。
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