
科研管理 ›› 2025, Vol. 46 ›› Issue (12): 65-77.DOI: 10.19571/j.cnki.1000-2995.2025.12.007
何喜军,安嘉骏,董颖,石安杰,张志豪
He Xijun, An Jiajun, Dong Ying, Shi Anjie, Zhang Zhihao
摘要: 芯片制造是实现科技自立自强与高质量发展的战略支柱产业,其创新网络的连通性水平直接影响我国在全球创新链、产业链、供应链中的竞争优势与地位。现有研究鲜有从多层网络渗流视角探索该领域知识、技术与产品等创新要素之间的交互连通性。本文以2013—2022年芯片制造领域的论文、专利及产品供应合作数据为基础,构建中国及全球“知识-技术-产品”多层创新网络,基于渗流理论的生成函数方法,刻画多层网络动态渗流过程,测度网络交互连通性并揭示其演变规律。研究发现:(1)中国芯片制造领域单层创新网络连通性差异显著,知识网络保持稳定连通,技术网络自2018年后处于断裂状态,产品网络连通性呈倒U型波动。(2)“知识-技术-产品”全过程创新链的交互连通性水平较低,知识向技术、产品的扩散路径通而不畅,技术向产品的扩散路径断裂。(3)多层创新网络极大子团的主体分布不均衡,异构创新资源聚集度较低,整网韧性不足。本研究为多层创新网络渗流连通性研究提供了方法参考,并为中国芯片制造领域创新网络治理提供了策略支撑。